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美光CEO:將向日本半導(dǎo)體工廠引入EUV光刻機(jī)

2023-05-18 15:16:11

日經(jīng)中文網(wǎng)5月18日消息,美國(guó)半導(dǎo)體存儲(chǔ)芯片制造商美光科技公司將在今后數(shù)年向日本廣島縣的DRAM工廠等日本國(guó)內(nèi)投資最多5000億日元。在日本政府的支援政策下,美光將在廣島縣的工廠引進(jìn)最尖端的生產(chǎn)線。美光首席執(zhí)行官(CEO)桑喬伊·莫羅特亞(SanjayMehrotra)在接受采訪時(shí)透露了上述消息。公司還計(jì)劃引進(jìn)尖端的光刻設(shè)備,生產(chǎn)下一代的存儲(chǔ)芯片。

莫羅特亞表示:“我們將在日本國(guó)內(nèi)首次引進(jìn)極紫外(EUV)光刻設(shè)備,自2026年左右開(kāi)始生產(chǎn)最尖端產(chǎn)品”。美光到2025年將向日本引進(jìn)極紫外光刻機(jī),完善相關(guān)體制。但其并未透露日本政府的具體援助金額。(界面)

責(zé)編 陳鵬程

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