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創(chuàng)業(yè)板指、科創(chuàng)50雙雙反彈,北向資金凈買127億元

每日經(jīng)濟(jì)新聞 2024-02-29 12:44:49

每經(jīng)記者 劉明濤    每經(jīng)編輯 彭水萍

今日A股低開后快速反彈,創(chuàng)業(yè)板指、科創(chuàng)50一度漲逾3%,午前各大指數(shù)均出現(xiàn)一定回落,截至上午收盤,上證指數(shù)漲0.73%報(bào)2979.56點(diǎn),深證成指漲1.65%報(bào)9196.71點(diǎn),創(chuàng)業(yè)板指漲1.79%報(bào)1780.22點(diǎn),科創(chuàng)50指數(shù)漲2.35%報(bào)789.76點(diǎn),北證50指數(shù)漲1.07%。市場(chǎng)半日成交額6746.3億元,北向資金實(shí)際凈買入126.98億元。

流動(dòng)性方面,央行公告稱,為維護(hù)月末流動(dòng)性平穩(wěn),2月29日以利率招標(biāo)方式開展1170億元7天期逆回購(gòu)操作,中標(biāo)利率為1.8%。Wind數(shù)據(jù)顯示,當(dāng)日有580億元逆回購(gòu)到期,因此單日凈投放590億元。

消息面,2月29日,國(guó)家統(tǒng)計(jì)局發(fā)布《中華人民共和國(guó)2023年國(guó)民經(jīng)濟(jì)和社會(huì)發(fā)展統(tǒng)計(jì)公報(bào)》稱,初步核算,2023年國(guó)內(nèi)生產(chǎn)總值1260582億元,同比增長(zhǎng)5.2%,最終消費(fèi)支出拉動(dòng)國(guó)內(nèi)生產(chǎn)總值增長(zhǎng)4.3個(gè)百分點(diǎn),資本形成總額拉動(dòng)國(guó)內(nèi)生產(chǎn)總值增長(zhǎng)1.5個(gè)百分點(diǎn),貨物和服務(wù)凈出口向下拉動(dòng)國(guó)內(nèi)生產(chǎn)總值0.6個(gè)百分點(diǎn)。

英偉達(dá)最新高端H200芯片將于第二季開始出貨,四大云端服務(wù)供應(yīng)商積極爭(zhēng)搶,以因應(yīng)龐大的AI運(yùn)算需求,Google主力代工廠廣達(dá)首批搭載該款A(yù)I芯片的AI服務(wù)器已開案,預(yù)計(jì)第三季完成后段測(cè)試并量產(chǎn)。

板塊方面,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈爆發(fā),光刻機(jī)方向領(lǐng)漲,奧普光電、福晶科技、亞翔集成、柏誠(chéng)股份等漲停,氫能源概念表現(xiàn)活躍,新動(dòng)力、國(guó)林科技、洪濤股份也紛紛漲停。高位股退潮,國(guó)脈文化跌停,華研精機(jī)、克勞斯、華揚(yáng)聯(lián)眾等大跌。

光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造的核心設(shè)備,其性能直接決定了芯片的工藝水平,開發(fā)難度大,價(jià)值量高,市場(chǎng)規(guī)??捎^,目前市場(chǎng)主流光刻設(shè)備有i-line、KrF、ArF、ArFi、EUV五大類;分辨率、套刻精度、產(chǎn)率是光刻機(jī)的核心指標(biāo),其中,分辨率直接決定制程,極致的分辨率水平是光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)不懈的追求,是光刻機(jī)最重要的指標(biāo),而套刻精度影響良率,產(chǎn)率影響光刻機(jī)的產(chǎn)能及經(jīng)濟(jì)性。此外,多重曝光技術(shù)可在光刻機(jī)分辨率不變的情況下進(jìn)一步提高芯片制程,應(yīng)用較為廣泛。

在全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)持續(xù)擴(kuò)張的趨勢(shì)下,光刻機(jī)市場(chǎng)規(guī)模長(zhǎng)期可觀;此外,光刻機(jī)開發(fā)難度大,產(chǎn)業(yè)壟斷性強(qiáng),是海外對(duì)華半導(dǎo)體制裁的重災(zāi)區(qū),直接影響國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)先進(jìn)制程的發(fā)展,因此光刻機(jī)自主突破的重要性尤為凸顯,光刻機(jī)國(guó)產(chǎn)產(chǎn)業(yè)鏈頗具潛力。

這里,通過(guò)整合多家券商最新研報(bào)信息,為粉絲朋友帶來(lái)4家公司簡(jiǎn)介,僅供參考。

1、新萊應(yīng)材

半導(dǎo)體零部件的國(guó)產(chǎn)化落地已然進(jìn)入攻堅(jiān)期和深水區(qū),公司在該賽道深耕多年地位顯著,疊加產(chǎn)品品類擴(kuò)張有望打開全新空間。(華福證券) 

2、奧普光電

奧普光電近年通過(guò)“長(zhǎng)光所體外孵化+上市公司外延并購(gòu)”的模式實(shí)現(xiàn)快速發(fā)展。航天復(fù)材需求旺盛,高精度光柵尺和編碼器、工業(yè)級(jí)CMOS圖像傳感器深度受益國(guó)產(chǎn)替代,公司進(jìn)入業(yè)績(jī)拐點(diǎn)。(華西證券) 

3、上海新陽(yáng)

公司自主研發(fā)的KrF光刻膠持續(xù)通過(guò)認(rèn)證客戶,已在國(guó)內(nèi)主流晶圓制造廠商處實(shí)現(xiàn)供貨,ArF光刻膠目前處于客戶端認(rèn)證階段。拋光液方面,目前已有成熟的SiO2體系的拋光液成功進(jìn)入客戶端,實(shí)現(xiàn)銷售,CeO2體系的部分產(chǎn)品已在客戶產(chǎn)線上線測(cè)試,性能良好,公司的第二、第三成長(zhǎng)曲線正逐步成型。(開源證券) 

4、艾森股份

公司立足于傳統(tǒng)封裝領(lǐng)域電鍍液及配套試劑,已占據(jù)國(guó)內(nèi)傳統(tǒng)封裝用電鍍液及配套試劑的主力供應(yīng)商地位,并沿著產(chǎn)業(yè)鏈向其他應(yīng)用領(lǐng)域發(fā)展,已逐步覆蓋被動(dòng)元件、PCB、先進(jìn)封裝、晶圓制造、光伏等領(lǐng)域的電鍍工藝環(huán)節(jié),同時(shí)通過(guò)光刻膠及配套試劑產(chǎn)品切入光刻環(huán)節(jié),相關(guān)產(chǎn)品將進(jìn)一步提高公司產(chǎn)品線覆蓋的廣度,成長(zhǎng)空間進(jìn)一步打開,營(yíng)收規(guī)模有望繼續(xù)擴(kuò)大。(平安證券) 

封面圖片來(lái)源:視覺(jué)中國(guó)-VCG211298090733

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今日A股低開后快速反彈,創(chuàng)業(yè)板指、科創(chuàng)50一度漲逾3%,午前各大指數(shù)均出現(xiàn)一定回落,截至上午收盤,上證指數(shù)漲0.73%報(bào)2979.56點(diǎn),深證成指漲1.65%報(bào)9196.71點(diǎn),創(chuàng)業(yè)板指漲1.79%報(bào)1780.22點(diǎn),科創(chuàng)50指數(shù)漲2.35%報(bào)789.76點(diǎn),北證50指數(shù)漲1.07%。市場(chǎng)半日成交額6746.3億元,北向資金實(shí)際凈買入126.98億元。 流動(dòng)性方面,央行公告稱,為維護(hù)月末流動(dòng)性平穩(wěn),2月29日以利率招標(biāo)方式開展1170億元7天期逆回購(gòu)操作,中標(biāo)利率為1.8%。Wind數(shù)據(jù)顯示,當(dāng)日有580億元逆回購(gòu)到期,因此單日凈投放590億元。 消息面,2月29日,國(guó)家統(tǒng)計(jì)局發(fā)布《中華人民共和國(guó)2023年國(guó)民經(jīng)濟(jì)和社會(huì)發(fā)展統(tǒng)計(jì)公報(bào)》稱,初步核算,2023年國(guó)內(nèi)生產(chǎn)總值1260582億元,同比增長(zhǎng)5.2%,最終消費(fèi)支出拉動(dòng)國(guó)內(nèi)生產(chǎn)總值增長(zhǎng)4.3個(gè)百分點(diǎn),資本形成總額拉動(dòng)國(guó)內(nèi)生產(chǎn)總值增長(zhǎng)1.5個(gè)百分點(diǎn),貨物和服務(wù)凈出口向下拉動(dòng)國(guó)內(nèi)生產(chǎn)總值0.6個(gè)百分點(diǎn)。 英偉達(dá)最新高端H200芯片將于第二季開始出貨,四大云端服務(wù)供應(yīng)商積極爭(zhēng)搶,以因應(yīng)龐大的AI運(yùn)算需求,Google主力代工廠廣達(dá)首批搭載該款A(yù)I芯片的AI服務(wù)器已開案,預(yù)計(jì)第三季完成后段測(cè)試并量產(chǎn)。 板塊方面,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈爆發(fā),光刻機(jī)方向領(lǐng)漲,奧普光電、福晶科技、亞翔集成、柏誠(chéng)股份等漲停,氫能源概念表現(xiàn)活躍,新動(dòng)力、國(guó)林科技、洪濤股份也紛紛漲停。高位股退潮,國(guó)脈文化跌停,華研精機(jī)、克勞斯、華揚(yáng)聯(lián)眾等大跌。 光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造的核心設(shè)備,其性能直接決定了芯片的工藝水平,開發(fā)難度大,價(jià)值量高,市場(chǎng)規(guī)??捎^,目前市場(chǎng)主流光刻設(shè)備有i-line、KrF、ArF、ArFi、EUV五大類;分辨率、套刻精度、產(chǎn)率是光刻機(jī)的核心指標(biāo),其中,分辨率直接決定制程,極致的分辨率水平是光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)不懈的追求,是光刻機(jī)最重要的指標(biāo),而套刻精度影響良率,產(chǎn)率影響光刻機(jī)的產(chǎn)能及經(jīng)濟(jì)性。此外,多重曝光技術(shù)可在光刻機(jī)分辨率不變的情況下進(jìn)一步提高芯片制程,應(yīng)用較為廣泛。 在全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)持續(xù)擴(kuò)張的趨勢(shì)下,光刻機(jī)市場(chǎng)規(guī)模長(zhǎng)期可觀;此外,光刻機(jī)開發(fā)難度大,產(chǎn)業(yè)壟斷性強(qiáng),是海外對(duì)華半導(dǎo)體制裁的重災(zāi)區(qū),直接影響國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)先進(jìn)制程的發(fā)展,因此光刻機(jī)自主突破的重要性尤為凸顯,光刻機(jī)國(guó)產(chǎn)產(chǎn)業(yè)鏈頗具潛力。 這里,通過(guò)整合多家券商最新研報(bào)信息,為粉絲朋友帶來(lái)4家公司簡(jiǎn)介,僅供參考。 1、新萊應(yīng)材 半導(dǎo)體零部件的國(guó)產(chǎn)化落地已然進(jìn)入攻堅(jiān)期和深水區(qū),公司在該賽道深耕多年地位顯著,疊加產(chǎn)品品類擴(kuò)張有望打開全新空間。(華福證券) 2、奧普光電 奧普光電近年通過(guò)“長(zhǎng)光所體外孵化+上市公司外延并購(gòu)”的模式實(shí)現(xiàn)快速發(fā)展。航天復(fù)材需求旺盛,高精度光柵尺和編碼器、工業(yè)級(jí)CMOS圖像傳感器深度受益國(guó)產(chǎn)替代,公司進(jìn)入業(yè)績(jī)拐點(diǎn)。(華西證券) 3、上海新陽(yáng) 公司自主研發(fā)的KrF光刻膠持續(xù)通過(guò)認(rèn)證客戶,已在國(guó)內(nèi)主流晶圓制造廠商處實(shí)現(xiàn)供貨,ArF光刻膠目前處于客戶端認(rèn)證階段。拋光液方面,目前已有成熟的SiO2體系的拋光液成功進(jìn)入客戶端,實(shí)現(xiàn)銷售,CeO2體系的部分產(chǎn)品已在客戶產(chǎn)線上線測(cè)試,性能良好,公司的第二、第三成長(zhǎng)曲線正逐步成型。(開源證券) 4、艾森股份 公司立足于傳統(tǒng)封裝領(lǐng)域電鍍液及配套試劑,已占據(jù)國(guó)內(nèi)傳統(tǒng)封裝用電鍍液及配套試劑的主力供應(yīng)商地位,并沿著產(chǎn)業(yè)鏈向其他應(yīng)用領(lǐng)域發(fā)展,已逐步覆蓋被動(dòng)元件、PCB、先進(jìn)封裝、晶圓制造、光伏等領(lǐng)域的電鍍工藝環(huán)節(jié),同時(shí)通過(guò)光刻膠及配套試劑產(chǎn)品切入光刻環(huán)節(jié),相關(guān)產(chǎn)品將進(jìn)一步提高公司產(chǎn)品線覆蓋的廣度,成長(zhǎng)空間進(jìn)一步打開,營(yíng)收規(guī)模有望繼續(xù)擴(kuò)大。(平安證券)

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